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매우 얇고 강한 그래핀 기반 회로

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기관명	NDSL
작성자	글로벌 과학기술정책 정보서비스
작성일자	2012-09-24 00:00:00.000
내용	코넬 연구진이 단원자 수준 두께의 초박막 제조기술을 개발했다. 실리콘 기판 없이 그래핀과 절연체인 보론 질화물의 단 원자 박막을 패턴화하는 방법을 고안했다. 패턴화 된 재성장이라 불리는 이 기술은 기판 없이 원자층 두께인 얇은 회로 제조를 가능케 하며, 제조된 초박막은 뛰어난 인장강도와 전기적 특성을 가지고 있다. 기본 에칭 및 리소그래피 기술을 이용하며, 반도체 물질을 도입하는 최종단계가 실현된다면 최초의 원자 수준 박막 집적회로를 제조할 수 있을 것이다. 연구팀은 현재 이 박막이 실제 소자로 전환시킬 수 있는 마지막 반도체 층을 얻기 위해 그래핀-보론 질화물 박막과 잘 어울리는 물질에 대해 연구중이다.
출처
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=TREND&cn=ARTI-00000001423
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