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동향 기본정보

물 분자 흡착을 통한 그래핀 밴드갭 조절

동향 개요

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기관명 NDSL
작성자 글로벌 과학기술정책 정보서비스
작성일자 2010-11-08 00:00:00.000
내용 렌셀러 폴리테크 연구소가 물을 사용해서 그라핀의 밴드 갭을 조절하는 새로운 방법을 개발하였으며 , 이로써 그라핀 기반의 트랜지스터 및 나노전자소자에 대한 가능성이 열렸다 . 연구진은 실리콘과 이산화실리콘 표면에 그라핀을 제조한 후 , 습도 제어가 가능한 환경의 챔버에서 그라핀을 노출시켰다 . 챔버 안에서 , 물 분자들은 노출된 그라핀 표면에 흡착되었으나 이산화실리콘과 접한 표면에는 흡착되지 않았다 . 이와 같이 대칭성을 제거함으로서 밴드 갭이 실제로 생성되었다 . 그라핀 표면에 다양한 기체를 흡착시켜서 밴드 갭을 생성하는 방법들이 기존에 소개된 바 있으나 , 물을 이용한 것은 처음이다 . 기체와 비교해서 물 분자 흡착의 장점은 , 저렴하고 비독성이며 칩 응용에서 제어하기가 훨씬 용이하다는 것이다 . 밀폐공간 내에서의 습도 수준에 기초하여 , 0 에서 0.2eV 범위에서 그라핀의 밴드 갭을 가역적으로 조절할 수 있다.
출처
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=TREND&cn=ARTI-00000000881
첨부파일

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