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동향 기본정보

대만, 중국에서의 대만기업의 지식재산전략과 연구개발력

동향 개요

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기관명 NDSL
작성자 글로벌 과학기술정책 정보서비스
작성일자 2011-12-08 00:00:00.000
내용 1. 개요 ○ 본 자료는 특허 데이터의 계량 분석을 통해 중국에서의 대만 기업의 연구 활동을 조사한 내용이다. - 이번 연구의 대상이 된 특허 데이터는, 중국 특허청에 1997년 1월 1일부터 2006년 12월 31일까지 출원된 발명 가운데, 출원인이 심사청구를 실시해 2010년 9월 14일까지 등록된 특허 정보이다. - 그 중에서도 한층 더 본 연구의 대상으로, IPC(국제특허분류) 중에서 G섹션(물리학)을 추출하였다. 그 이유는, 대만 기업이 출원·등록하는 특허의 IPC를 보면 G섹션(물리학)이 가장 많고, G섹션(물리학)에는 반도체나 전기전자 등 대만 기업이 장점으로 갖고 있는 기술 분야를 포함하고 있다. 2. 조사 결과 ○ 1997년부터 2006년의 10년 간, 중국 특허청에 등록된 G섹션(물리학)에서의 특허 건수는 한국의 삼성전자와 일본의 파나소닉이 선두를 격렬하게 다투고 있다. 그러나 2003년부터는 삼성전자가 천천히 그 수를 늘리면서 1위로 앞서가고 있다. - 2003년부터 일본 기업의 등록 건수는 약간 감소하는 추세이지만, 일본 기업은 G섹션(물리학)의 톱 20개사 중에 8개사가 순위에 올라있어 지식재산을 중심으로 한 비즈니스 전략을 지향하고 있는 것에는 큰 변화가 없는 것으로 보인다. ○ 한편, 대만 기업으로는 전자기기 주문자 상표 부착 생산으로 대규모 기업인 홍하이(鴻海)정밀공업(5위)이 특허 등록에 적극적이다. - 홍하이는 6위인 홍푸진(鴻富錦, 홍하이계 중국 법인)과 함께 공동 특허를 많이 등록하고 있으며, 또 다른 홍하이계 중국 법인인 InnoLux Display Corporation은 31위에 순위가 올라있다. - 홍하이는 상기의 중국 법인을 중심으로, 출원하는 기술 분야별로 중국 특허청에 공동 출원 rarr;공동 등록을 적극적으로 진행하고 있다. 출원사(인) 수를 보면, 이 3개사 간의 특허가 적지 않게 중복하고 있다. - 홍하이 외에 Inventec이 2001년부터 특허를 등록하기 시작하여, 2006년에는 270건을 등록하였다. 홍하이계 중국 법인을 제외한, 순수한 중국 기관으로는 칭화대학(15위), 레노보(16위), 후웨이(20위)가 적극적으로 연구개발을 실시해, 그 성과의 권리화를 추진하고 있다. ○ 그 다음으로, 중국 특허청에 등록한 특허에서의 기술 분야의 경년 변화를 조사하였다. - 기업 전체에서의 등록 기술 분야를 보면, 어느 정도 기술 분야가 분산하고 있지만, 톱 70위 이내의 대만 기업의 등록 특허를 집약했을 경우, 2006년에 출원된 등록된 특허의 기술에서 G06F(전기적 디지털 데이터 처리), G02F(박형(薄型) 패널)의 2개 기술분야가 전체의 59%에 이르는 것을 알 수 있다. 특히, G02F(박형(薄型) 패널) 관련 특허의 성장이 급속하여 1997년에는 등록이 전혀 없었지만 시간과 함께 증가해 2003년에는 107건, 2006년에는 392건으로 급증하였다. 최근, 대만 기업이 해당 기술에 주력하고 있음을 알 수 있다. 또, 매크로적인 시점에서 파악했을 때, 중국에서 신규에 등록되는 G섹션(물리학)의 신기술 중, 거의 10%가 대만 기업이 등록한 특허이다. - 개별 기업의 변화에 주시하면, 홍하이가 기술 분야를 확장하고 있는 반면, Inventec는 변함 없이 G06F(전기적 디지털 데이터 처리) 기술에 주력해 특허 등록을 실시하고 있다. 홍하이는 자사의 중국 법인을 활용해 자사가 장점으로 여기는 기술 분야를 확대하고 있다. 또, 2000년에는 거의 볼 수 없었던 기술 분야에서 2006년에는 비록 3% 이하의 수치이지만 특허 등록을 시작하고 있다. 이는 새로운 기술을 발굴하는 것으로 파악할 수 있다. 수년 후에는, 이 수%의 기술 중에서 홍하이 그룹의 핵심 기술이 나올 가능성도 있다. R D는 단시간에 이루어지지는 않지만, 홍하이는 지난 6년 간, 이전까지 자사에 없던 기술을 자사의 기술로 만들고 있다. - 목차 - 1. 서론 2. 대만 제조사의 신기술 획득 수법 3. 대만 기업의 중국에서의 기술 창조 활동 4. 외자 기업이 중국에서 연구개발을 실시하는 필요성 5. 중국에서의 기업의 연구개발 활동 6. 연구·분석에 이용한 데이터 7. 중국 특허청의 특허 데이터 분석 8. 홍하이(鴻海)정밀공업의 연구개발 전략 9. 결론
출처
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=TREND&cn=GT201103636
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