| 초록 |
□ 연구개발 목표 ● 문재인 정부의 120개 중점과학기술에 대한 2018년 기술수준평가 수행 - 「제4차 과학기술기본계획」에 포함된 중점과학기술에 대해 미국, EU, 일본, 중국과의 기술격차 등을 분석 - 기술 기획 및 평가 등 다양한 과학기술 정책 수립 활동에 활용될 수 있는 기초 자료 생성 □ 연구개발 내용 ● (델파이 개선) 기술수준평가 참여 전문가 선발 및 운영방식, 델파이 항목 개선 - 소수의 핵심 전문가가 델파이 평가위원으로 5년 동안 임기제로 참여하는 방식으로 개선 - 기술수준 응답 확신도, 산・학・연 투자 비율 등 활용도가 낮거나 평가가 어려운 항목을 삭제하거나 개선 ● (정량분석 확대) 데이터 기반의 분석 요구에 대응하고 특정 전문가에 의존하는 기술동향 보고서를 대체하기 위해 기존 논문・특허 분석 지표에 다양한 분석 지표를 추가 - 특허 데이터 범위를 기존 미국 특허청 출원에서 5개국(한, 미, 일, 중, EU) 특허청 출원 특허로 확대 - 논문・특허의 활동 추이와 기술적 가치 등을 파악할 수 있는 지표를 발굴・분석하여 기술현황 정보를 제공 □ 평가 결과 ● 한국의 기술수준은 최고기술 보유국(미국) 대비 76.9%이며, 최고기술 보유국과 3.8년의 기술격차가 있는 것으로 평가 - 최고기술 보유국(미국)과의 기술격차는 EU 0.7년, 일본 1.9년, 한국과 중국은 3.8년으로 평가 ● 120개 중점과학기술에 대한 한국의 논문 증가율은 비교 대상국(중국, 일본, EU, 미국) 중 2위, 특허 영향력은 3위인 것으로 분석 - 한국의 논문 증가율(107.8%)과 특허 증가율(34.7%)은 2위를 차지하였으나, 논문 점유율(5위, 4.5%)과 특허 점유율(4위, 15.1%)은 순위가 낮음 - 한국의 특허 영향력(6.1) 및 특허 청구항수(5.1)는 3위로 분석되었고 논문 연구주체 다양도(0.98)와 IP4점유율(24.8%)은 EU가 가장 높음 ● '대면적・초고속・초정밀 디스플레이 소재・공정 및 장비 기술(97.5%)', '초고집적 반도체 공정 및 장비・소재기술(94.0%)', '인체친화형 디스플레이기술(94.0%)'이 최고기술보유국 대비 기술수준이높은 중점과학기술로 평가됨 ● '인체친화형 디스플레이기술(0.5년)', '대면적・초고속・초정밀 디스플레이 소재・공정 및 장비 기술(0.8년)'은 최고기술 보유국에 매우 근접한 것으로 평가됨 □ 향후 계획 ● 기술수준평가 결과는 각 부처 및 유관기관에 배포하여 기술수준 향상 시책 수립(과학기술기본법 제14조) 등에 활용 - 정부 R&D 투자전략 수립 등 정부연구개발 투자방향 설정을 위한 기초자료로 활용 - 2년 주기의 기술수준평가 추진을 통해 주요국(중국, 일본, EU, 미국)과의 기술격차 변화를 파악하여 중점과학기술의 시계열적인 현황을 점검 ● 기술수준의 향상을 위한 시책 수립의 활용도를 제고하기 위해서 2018년 새롭게 적용된 평가 항목과 확대된 논문・특허 분석의 적절성 및 활용성에 대한 분석 연구 추진 - 합의의 정도가 낮은 경우에 대응하기 위해 델파이 설문조사 후 offline 회의 추가, 델파이 설문조사 앞선 간단한 설문조사 추가 등의 가능성 검토 - 연구성과, 인력, 인프라 수준에 대한 세부 조사를 바탕으로 기술수준(%) 정보의 생성과 연계하는 방안 검토 필요 - 논문 및 특허의 주요 발행인 및 출원인 등에 대한 정보를 제공하고 있으나, 이러한 정보의 활용도 및 전문가가 주관적으로 작성하는 기술동향 자료의 대체 가능성에 대한 검토 (출처 : 요약문 5p) |
