| 초록 |
본 발명은 TFT-LCD용 프리즘 시트, 재귀(再歸)반사 시트 등의 광학용 성형사출품을 생산하기 위한 금형의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 인위적인 정제공정을 반복해서 얻은 고순도의 금속소재를 초정밀절삭가공한 후 도전성 박막처리, 도금 및 전주(電鑄)과정을 거치게 함으로써 공구의 손상을 방지하고 별도의 경면(鏡面)연마가공이 필요없으며 표면부식을 막아서 그 가공면이 나노미터 단위의 조도를 갖도록 하여 특수한 광학신소재 등에 응용할 수 있는 초고휘도 금형의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 인위적인 정제공정을 반복해서 고순도의 금속소재(10)를 얻는 단계(S1); 상기 고순도의 금속소재(10)를 단결정 다이아몬드공구에 의해 초정밀절삭가공을 하는 단계(S2); 금형의 분리를 용이하게 하고 경면(鏡面)을 온전히 복제하기 위해 상기 절삭가공된 금속표면에 5㎚ 정도의 두께로 도전성 박막(20)처리를 하는 단계(S3); 부식을 막고 경면을 유지하기 위해 상기 박막처리된 금속표면에 귀금속으로 10㎛ 정도의 두께로 도금(30)을 하는 단계(S4); 상기 도금된 금속표면 위에 금속으로 전주(電鑄)(40)를 하는 단계(S5); 표면이 도금되어 있는 상기 전주를 통해 복제된 금형을 분리하는 단계(S6)로 구성되어 있다. |
