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중주파수 플라즈마원를 이용한 파티클 제거 및클로로플루오로카본 화합물 분해장치

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기관명	NDSL
출원인	주식회사 선익시스템
출원번호	10-2000-0060670
출원일자	2000-10-16
공개번호	20080509
공개일자	2002-12-26
등록번호	10-0365666-0000
등록일자	2002-12-09
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 반도체 및 산업용 화학기상증착, 물리적기상층착, 건식식각, 표면개질 공정에서 반응원료에 의해서 다량으로 발생되는 파티클과 배기관을 통해 대기중으로 배출되는 오존층 파괴의 주요물질인 클로로플루오로카본(CFC) 화합물을 비교적 임피던스 매칭과 설치하기가 용이한 중주파수 플라즈마원을 이용한 파티클 제거 및 클로로플루오로카본(CFC) 화합물 분해 장치에 관한 것이다. 본 발명의 장치는, 공정실에서 반응기체가 공정 반응후에 펌프에 의해 강제 배기되는 배기관에서 상기 공정실측과 상기 펌프측에 각각 전기적으로 격리된 상태로 설치되어 중주파수 플라즈마원에 의하여 플라즈마 반응을 일으키도록 하는 플라즈마발생부를 포함하여 구성된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020000060670
첨부파일