특허 | 기업공감원스톱서비스

특허

산업용 플라즈마 공정들을 위한 장치

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명	NDSL
출원인	플라스메트렉스 게엠베하
출원번호	10-2008-0065552
출원일자	2008-07-07
공개번호	20091114
공개일자	2011-07-08
등록번호	10-1048219-0000
등록일자	2011-07-04
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 비대칭 무선 주파수(RF) 저압 플라즈마들에서의 전류 측정을 위한, 플라즈마 에칭, 플라즈마 강화 화학 기상 증착, 및 스퍼터링과 같은, 산업용 플라즈마 공정들을 위한 장치에 관한 것으로서, 상기 장치는 그에 연결되는 내부 도체(3)와 그 주변 표면(5)의 적어도 일부 상에 유전체(4)를 갖는 미터 전극(2)을 포함하며, 상기 미터 전극(2)은 그 유전체(4)와 함께 챔버(12)의 벽(11) 내의 플랜지 또는 리세스(recess)(10)에 위치되며, 상기 장치는 다음의 방정식: 을 만족하도록 설계되며, 여기서, Z 0 는 상기 장치(1)의 특성 임피던스이며, μ r 은 상대 투자율이며, ε r 은 상기 유전체(4)의 유전율이며, D 는 상기 플랜지 또는 리세스(10)의 내경이며, d 는 미터 전극(2)의 상기 내부 도체(3)의 외경인 산업용 플라즈마 공정들을 위한 장치에 관한 것이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020080065552
첨부파일