전자 재료용 Cu-Ni-Si 계 합금
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 제이엑스 닛코 닛세키 킨조쿠 가부시키가이샤 |
| 출원번호 | 10-2012-7027855 |
| 출원일자 | 2012-10-25 |
| 공개번호 | 20121207 |
| 공개일자 | 0000-00-00 |
| 등록번호 | |
| 등록일자 | 0000-00-00 |
| 권리구분 | KUPA |
| 초록 | Ni-Si 화합물 입자의 분포 상태를 제어함으로써 코르손계 합금의 특성 향상을 도모한다. Ni:0.4?6.0 질량%, Si:0.1?1.4 질량% 를 함유하고, 잔부 Cu 및 불가피적 불순물로 구성되는 전자 재료용 구리 합금으로서, 입경이 0.01 ㎛ 이상이고 0.3 ㎛ 미만인 Ni-Si 화합물 소립자와, 입경이 0.3 ㎛ 이상이고 1.5 ㎛ 미만인 Ni-Si 화합물 대립자가 존재하고 있고, 상기 소립자의 개수 밀도가 1?2000 개/㎛ 2 이고, 상기 대립자의 개수 밀도가 0.05?2 개/㎛ 2 인 전자 재료용 구리 합금. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020127027855 |
| 첨부파일 |
| 과학기술표준분류 | |
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| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | C22C-009/00,C22C-009/06,C22F-001/08 |
| 주제어 (키워드) |