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이온 주입 균일성을 제어하기 위한 장치 및 기술들

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기관명	NDSL
출원인	베리안 세미콘덕터 이큅먼트 어소시에이츠, 인크.
출원번호	10-2015-7034316
출원일자	2015-12-01
공개번호	20160114
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	이온 주입기내 이온 빔을 제어하는 시스템은 제 1 주파수에서의 이온빔의 복수개의 빔 전류 측정들을 감지하는 검출기 시스템, 복수개의 빔 전류 측정들에 기초하여 이온 빔의 변화를 결정하는 분석 컴포넌트를 포함하고, 변화는 제 1 주파수와 다른 제 2 주파수에서의 이온 빔의 빔 전류 변화에 해당한다. 시스템은 또한 변화를 줄이기 위해서 분석 컴포넌트의 출력에 응답하여 이온 빔을 조정하는 조정 컴포넌트를 포함하되, 분석 컴포넌트 및 조정 컴포넌트는 이온 빔이 이온 주입기내에서 생성되는 동안 이온 빔의 변화를 임계값 아래로 동적으로 줄이도록 구성된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020157034316
첨부파일