에칭 마스크를 제거하는 방법
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 |
| 출원번호 | 10-2020-0008846 |
| 출원일자 | 2020-01-22 |
| 공개번호 | 20200206 |
| 공개일자 | 0000-00-00 |
| 등록번호 | |
| 등록일자 | 0000-00-00 |
| 권리구분 | KUPA |
| 초록 | 예시적인 방법은 타겟층 위에 패터닝된 에칭 마스크를 형성하는 단계 및 상기 패터닝된 에칭 마스크를 마스크로서 사용하여 상기 타겟층을 패터닝하여 패터닝된 타겟층을 형성하는 단계를 포함한다. 상기 방법은 상기 패터닝된 에칭 마스크 및 상기 패터닝된 타겟층에 제1 클리닝 공정을 수행하는 단계 - 상기 제1 클리닝 공정은 제1 용액을 포함함 - 를 더 포함한다. 상기 방법은 상기 패터닝된 에칭 마스크를 제거하고 노출된 패터닝된 타겟층을 형성하도록 제2 클리닝 공정을 수행하는 단계 - 상기 제2 클리닝 공정은 제2 용액을 포함함 - 를 추가적으로 포함한다. 상기 방법은 또한 상기 노출된 패터닝된 타겟층에 제3 클리닝 공정을 수행하는 단계, 및 상기 노출된 패터닝된 타겟층에 제4 클리닝 공정을 수행하는 단계 - 상기 제4 클리닝 공정은 상기 제1 용액을 포함함 - 를 포함한다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020200008846 |
| 첨부파일 |
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | H01L-021/768,H01L-021/02,H01L-021/033 |
| 주제어 (키워드) |