주기적인 알루미늄 산질화물 퇴적
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 에이에스엠 아이피 홀딩 비.브이. |
| 출원번호 | 10-2015-0165585 |
| 출원일자 | 2015-11-25 |
| 공개번호 | 20160609 |
| 공개일자 | 0000-00-00 |
| 등록번호 | |
| 등록일자 | 0000-00-00 |
| 권리구분 | KUPA |
| 초록 | 알루미늄 옥시나이트라이드(AlON)를 퇴적하는 방법이 개시된다. 상기 방법은 기판 상에 알루미늄 및 질소-함유 화합물을 형성하기 위해 알루미늄 전구체 및 질소 전구체에 대하여 일시적으로 분리된 노출들에 상기 기판을 부속시키는 단계를 포함한다. AlON을 형성하기 위해 상기 알루미늄 및 질소-함유 화합물이 산소 전구체에 이어서 노출된다. 알루미늄 전구체 및 질소 전구체에 대한 상기 일시적으로 분리된 노출들 및 산소 전구체에 대한 상기 후속적 노출은 함께 AlON 퇴적 사이클을 구성한다. 복수의 AlON 퇴적 사이클들이 원하는 두께의 AlON 막을 퇴적하기 위해 수행된다. 상기 퇴적은 뱃치 공정 챔버 내에서 수행될 수 있으며, 이것은 25개 이상의 기판들을 수용할 수 있다. 상기 퇴적은 플라즈마에 대한 노출 없이 수행될 수 있다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150165585 |
| 첨부파일 |
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | |
| 주제어 (키워드) |