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특허/실용신안

새로운 반응용매를 사용한 침전중합으로 가교된 폴리스티렌입자를 제조하는 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 인하대학교 산학협력단
출원번호 10-2007-0025836
출원일자 2007-03-16
공개번호 20080509
공개일자 2008-03-13
등록번호 10-0812671-0000
등록일자 2008-03-05
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 침전중합으로 가교된 폴리스티렌 입자를 제조하는 방법에 관한 것으로, 특히 아세톤/메탄올 혼합용매를 새로운 반응용매로 사용하여 침전중합으로 가교된 구형의 폴리스티렌 입자를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에서는, 아세톤과 메탄올의 혼합용매를 침전중합의 반응용매로 사용하고 그 혼합비를 조절하여 반응용매의 용해도 상수를 9∼15 (cal/cm3)1/2의 범위로 하여 반응시킨다. 본 발명에 따르면, 고가의 아세토니트릴을 전혀 사용하지 않으면서도 아세톤과 메탄올의 혼합용매만으로 침전중합이 가능하고, 그 결과 완전 가교되어 안정화된 구 형태를 갖고 평균입경이 1.0∼8.0 마이크론인 폴리스티렌 입자를 제조할 수 있다. 본 발명에 따라 제조된 폴리스티렌 입자는 기기 검정 시 사용되는 표준물질, 필터 기공의 크기와 효율 측정, 크로마토그래피용 칼럼의 충진물, 생화학에서의 지지체, 생의학 분야, 코팅, 잉크, 복사용 건조 토너, 정보산업 및 미세 전기기기 등 고부가가치의 다양한 분야에서 이용될 수 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020070025836
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C08J-003/24,C08F-002/06,C08F-012/08,C08J-003/12
주제어 (키워드)