특허 | 기업공감원스톱서비스

특허

아민 치환된 트리실릴아민 및 트리디실릴아민 화합물

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명	NDSL
출원인	레르 리키드 쏘시에떼 아노님 뿌르 레?드 에렉스뿔라따시옹 데 프로세데 조르즈 클로드
출원번호	10-2016-7011263
출원일자	2016-04-27
공개번호	20160603
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	무 할로겐 (halogen-free) 아민 치환된 트리실릴아민 및 트리디실릴아민 화합물 및 상응하는 비치환된 트리실릴아민과 아민의 전이 금속 촉매에 의해 촉매화된 탈수소 커플링 (dehydrogenative coupling) 을 통한 상기 화합물의 제조 방법이 기술되었다. 본 새로운 접근은 Si-N 함유 화합물 및 수소 기체를 형성하는 Si-H 및 N-H 성분의 촉매 탈수소커플링 (dehydrocoupling) 을 기반으로 한다. 본 공정은 전이 금속 불균일 촉매, 예컨대 탄소에 지지된 Ru(0), MgO 에 지지된 Pd(0) 뿐만 아니라 균일 촉매로서의 역할을 하는 전이 금속 유기금속 착물에 의해 촉매화될 수 있다. -Si-N 함유 생성물은 무 할라이드 (halide-free) 이다. 이러한 화합물은 Si 함유 필름의 화학 기상 증착 또는 원자 층 증착에 의한 박막 증착에 유용할 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167011263
첨부파일