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높은 무크랙 한계를 갖는 CIGS 나노 입자 잉크 제제

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기관명	NDSL
출원인	나노코 테크놀로지스 리미티드
출원번호	10-2016-7012526
출원일자	2016-05-12
공개번호	20160623
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	500 nm 이상의 무크랙 한계(CFL)를 갖는 박막을 형성하기 위해 처리될 수 있는 CIGS 나노 입자 기반 잉크 제조 방법은 Cu(ln,Ga)S 2 및 Cu(ln,Ga)Se 2 나노 입자를 용해 또는 분산시키는 단계; 잉크를 형성하기 위해 상기 나노 입자 용액/분산액을 혼합시키고 올레산을 첨가하는 단계; 기판 상에 상기 잉크를 증착하는 단계; 잉크 제제의 유기 성분을 제거하기 위해 어닐링하는 단계; CFL≥500 nm인 박막을 형성하는 단계; CIGS 막의 두께 ≥ 1㎛ 을 형성하기 위해 상기 증착 및 어닐링 공정을 반복하는 단계를 포함한다. 이렇게 생산된 상기 막은 박막 PV 소자에 결합될 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167012526
첨부파일