토실산 스프라타스트 결정
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 다이호야쿠힌고교 가부시키가이샤 |
| 출원번호 | 10-2002-7016413 |
| 출원일자 | 2002-12-02 |
| 공개번호 | 20080509 |
| 공개일자 | 2005-12-08 |
| 등록번호 | 10-0535305-0000 |
| 등록일자 | 2005-12-02 |
| 권리구분 | KPTN |
| 초록 | 분말 X선 회절에 의한 회절각(2θ±0.1°)으로서 5.6°, 9.0°, 11.0°, 15.3°, 16.5°, 17.2°, 17.9°, 19.2°, 19.9°및 21.5°부근에 특징적인 피크를 나타내는 토실산 스프라타스트 결정 및 그의 제조법. 본 발명의 토실산 스프라타스트 결정은 광학 활성체비가 벗어나지 않으며, 흡습성이 낮고, 보존 안정성이 높은 것 등의 이점을 가지기 때문에, 용이하고도 대량으로 제조할 수 있음과 동시에, 제제화, 품질 관리상도 유리하여 의약품 원료로서 우수하다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020027016413 |
| 첨부파일 |
| 과학기술표준분류 | |
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| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | |
| 주제어 (키워드) |