입방형 결정질 광학 시스템에서의 복굴절의 보정
기관명 | NDSL |
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출원인 | 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. |
출원번호 | 10-2003-7015766 |
출원일자 | 2003-12-01 |
공개번호 | 20080509 |
공개일자 | 2008-08-04 |
등록번호 | 10-0850324-0000 |
등록일자 | 2008-07-29 |
권리구분 | KPTN |
초록 | 광학 시스템은 공통 광축에 따라 정렬되고, 고유 복굴절 효과를 최소화하고 감소된 리타던스를 갖는 시스템을 생산하기 위해, 서로에 대해 지향되는 결정 격자를 갖는 다수의 입방형 결정질 광학 소자를 포함한다. 광학 시스템은 높은 개구수를 가지며, 248NM 이하의 파장을 갖는 빛을 사용하는 굴절 또는 반사굴절 시스템일 수 있다. 소자들이 개별 소자의 고유 복굴절이 서로 상쇄되도록 지향됨에 따라, 시스템의 순 리타던스는 각각의 광학 소자의 리타던스 기여도의 합보다 작다. 일실시예에서, 2개의 [110] 입방형 결정질 공학 소자는 서로에 대해 클로킹되고, 리타던스를 감소시키기 위해, [100] 입방형 결정질 광학 소자와 함께 사용된다. 다양한 복굴절 소자, 파동판 및 그들의 조합이 잔여 리타던스 및 파면 수차의 추가적인 보정을 제공한다. 광학 시스템은 반도체 기판과 같은 기판을 패터닝하기 위한 포토리소그래피 툴에 사용되어, 반도체 장치를 생산할 수 있다. |
원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020037015766 |
첨부파일 |
과학기술표준분류 | |
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ICT 기술분류 | |
IPC분류체계CODE | |
주제어 (키워드) |