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포토 마스크 상에 형성된 패턴들의 크기를 측정하기 위한장치 및 방법

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기관명	NDSL
출원인	삼성전자주식회사
출원번호	10-2005-0032824
출원일자	2005-04-20
공개번호	20080509
공개일자	2007-02-20
등록번호	10-0684895-0000
등록일자	2007-02-13
권리구분	KPTN
초록	포토 마스크 상에 형성된 패턴들의 크기를 측정하기 위한 장치 및 방법을 제공한다. 이 방법은 포토 마스크의 회로 패턴들의 위치를 규정하는 설계 데이터를 준비하고, 상기 설계 데이터를 이용하여 상기 포토 마스크를 제작하고, 소정 파장의 측정광을 상기 포토 마스크의 소정영역에 투과시킨 후, 상기 투과된 측정광의 분광학적 상태를 측정하는 단계를 포함한다. 이후, 상기 설계 데이터를 이용하여 상기 투과된 측정광의 예상되는 분광학적 특성과 상기 회로 패턴들의 크기 사이의 관계를 규정하는 광-크기 데이터를 준비한 후, 상기 투과된 측정광의 측정된 분광학적 상태를 상기 광-크기 데이터와 비교하여 상기 측정광이 투과한 영역에서 상기 회로 패턴들의 크기를 결정한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020050032824
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