반도체 소자 및 이의 제조 방법
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 전자부품연구원 |
| 출원번호 | 10-2014-0033489 |
| 출원일자 | 2014-03-21 |
| 공개번호 | 20151008 |
| 공개일자 | 0000-00-00 |
| 등록번호 | |
| 등록일자 | 0000-00-00 |
| 권리구분 | KUPA |
| 초록 | 본 발명은 반도체 소자 및 이를 제조하는 방법에 관한 것으로써, 보다 구체적으로는 라미네이션 기술을 적용한 두꺼운 절연층을 포함한 반도체 소자 및 이를 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명은 씨모스 전력 증폭기(CMOS power amplifier), 저잡음 증폭기(LNA, Low Noise Amplifier), 전압 조정 발진기(VCO, voltage controlled oscillator) 등의 회로를 위한 인덕터 혹은 전송선로와 같은 수동소자의 성능을 향상시키는 효과가 있다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020140033489 |
| 첨부파일 |
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | H01L-021/31,H01L-021/304,H01L-021/60 |
| 주제어 (키워드) |