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특허/실용신안
기판 균일성을 제어하기 위한 방법들 및 장치
특허 실용신안 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 |
| 출원번호 | 10-2014-7033275 |
| 출원일자 | 2014-11-26 |
| 공개번호 | 20150115 |
| 공개일자 | 0000-00-00 |
| 등록번호 | |
| 등록일자 | 0000-00-00 |
| 권리구분 | KUPA |
| 초록 | 동적으로 튜닝가능한 프로세스 키트, 상기 동적으로 튜닝가능한 프로세스 키트를 갖는 프로세싱 챔버, 및 동적으로 튜닝가능한 프로세스 키트를 사용하여 기판을 프로세싱하기 위한 방법이 제공된다.동적으로 튜닝가능한 프로세스 키트는 프로세스 키트의 전기적 상태 및 열적 상태 중 하나 또는 둘 모두가 프로세스 키트의 물리적 구성을 변화시키지 않고 변화되도록 허용하고, 그에 따라 플라즈마 특성들 및 그러므로 프로세싱 결과들이 프로세스 키트를 교체하지 않고 용이하게 변화될 수 있도록 허용한다.동적으로 튜닝가능한 프로세스 키트를 갖는 프로세싱 챔버는 전기적으로 제어되도록 구성된 전도성 측벽의 일부를 포함하는 챔버 본체 및 프로세스 키트를 포함한다.프로세싱 챔버는 프로세스 키트의 전기적 상태 및 열적 상태 중 하나 또는 둘 모두를 제어하도록 작동가능한 제 1 제어 시스템 및 측벽의 일부의 전기적 상태를 제어하도록 작동가능한 제 2 제어 시스템을 포함한다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020147033275 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | H01L-021/205,H05H-001/46,H01L-021/02 |
| 주제어 (키워드) |