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플라즈마 프로세싱 챔버의 하부 전극 어셈블리

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기관명	NDSL
출원인	램 리써치 코포레이션
출원번호	10-2016-7013192
출원일자	2016-05-19
공개번호	20160609
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	플라즈마 프로세싱 챔버에 사용하는 하부 전극 어셈블리는 금속 베이스 및 상부 및 하부 에지 링들을 포함한다. 금속 베이스는 함께 납땜되고 그 금속 베이스의 하측면 상의 납땜선, 하측면으로부터 내측으로 수평으로 연장하는 에지 링 지지면 및 에지 링 지지면 위의 상측면을 형성하는 금속판들을 포함한다. 상부 에지 링은 에지 링 지지면 상에 장착된 하면을 포함하고, 하부 에지 링은 상부 에지 링과 하부 에지 링의 대향면들 사이 및 금속 베이스의 외주부와 하부 에지 링 사이의 갭을 갖고 금속 베이스의 하측면을 둘러싼다. 갭은 납땜선의 위치에서의 아크발생을 방지하기에 충분한 평균 갭 폭에 대한 총 갭 길이의 종횡비를 갖는다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020167013192
첨부파일