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도전성 패턴 형성용 조성물 및 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체

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기관명	NDSL
출원인	주식회사 엘지화학
출원번호	10-2014-0181437
출원일자	2014-12-16
공개번호	20150709
공개일자	2016-06-24
등록번호	10-1631701-0000
등록일자	2016-06-13
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 각종 고분자 수지 제품 또는 수지층 상에 단순화된 공정으로 미세한 도전성 패턴을 형성할 수 있게 하며, 다양한 색상 구현 등의 당업계의 요구를 보다 효과적으로 충족할 수 있게 하는 도전성 패턴 형성용 조성물 및 도전성 패턴을 갖는 수지 구조체에 관한 것이다. 상기 도전성 패턴 형성용 조성물은 고분자 수지; 및 제 1 금속 및 제 2 금속을 포함하고, 소정의 화학 구조를 갖는 나시콘(NASICON) 입체 구조의 비도전성 금속 화합물;을 포함하고, 전자기파 조사에 의해 상기 비도전성 금속 화합물로부터 상기 제 1 금속 또는 그 이온을 포함하는 금속핵이 형성되는, 전자기파 조사에 의한 도전성 패턴 형성용 조성물로 될 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020140181437
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