특허 | 기업공감원스톱서비스

특허

일정 수위의 연속회분식 반응조 공정에서 높은 에너지 효율, 높은 유량, 낮은 운전 비용, 자동화된 스컴과 거품의 제거 / 파괴 및 공정 전환 방법을 갖춘 막을 이용한 하·폐수 처리 시스템과 방법

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명	NDSL
출원인	,
출원번호	10-2012-0061837
출원일자	2012-06-09
공개번호	20131220
공개일자	2014-12-15
등록번호	10-1472421-0000
등록일자	2014-12-08
권리구분	KPTN
초록	하·폐수 처리 시스템 및 방법이 개시된다. 상기 하·폐수 처리 시스템은 씨에스비알 TM (CSBR TM : Constant level continuous flow Sequencing Batch Reactor)을 이용한 생물학적 고도 처리 공정으로 하·폐수 중에 포함되어 있는 오염 물질을 제거하는 하·폐수 막처리 시스템과 방법, 높은 유량, 높은 에너지 효율, 저 운영비용을 갖는 막 생물반응기로의 공정전환 방법과 자동화된 스컴과 거품 관리와 제거 시스템에 관한 것이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020120061837
첨부파일