특허 | 기업공감원스톱서비스

특허

하전 입자빔 묘화 장치 및 하전 입자빔 묘화 방법

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명	NDSL
출원인	가부시키가이샤 뉴플레어 테크놀로지
출원번호	10-2015-0039882
출원일자	2015-03-23
공개번호	20151008
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명의 일태양의 하전 입자빔 묘화 장치는, 시료의 묘화 영역이 복수의 처리 영역으로 가상 분할된 처리 영역마다 묘화 데이터를 병렬로 데이터 변환 처리하는 복수의 변환 처리부와, 데이터 변환 처리된 처리 영역의 처리 데이터를 일부씩 n 개의 분할 처리 데이터로서 차례로 입력하고, 또한 제n 번째의 분할 처리 데이터를 입력하면서, 제n-1 번째의 분할 처리 데이터를 전송하도록 n 개의 분할 처리 데이터를 차례로 전송하는 전송부와, 차례로 전송된 분할 처리 데이터에 따라, 하전 입자빔을 편향하는 편향량을 제어하는 편향 제어 회로와, 편향량에 기초하여 하전 입자빔을 편향함으로써, 시료에 패턴을 묘화하는 묘화부를 구비한 것을 특징으로 한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020150039882
첨부파일