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이머젼 리소그래피 소자를 모니터링 하기 위한 장치 및방법

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기관명	NDSL
출원인	쏘시에떼 드 프로딕시옹 에 드 리쉐르슈 아쁠리께
출원번호	10-2008-7005964
출원일자	2008-03-11
공개번호	20080620
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 웨이퍼 상에 이미지들을 프린트하기 위한 프로젝션 광학계 및 주 광 소스가 제공되는 이머젼 리소그래피을 모니터링 하기 위한 장치에 관련된다. 프로젝션 광학계에서 웨이퍼까지 신장하는 전파 매질은 액체(3)로 구성된다. 상기 장치는 상기 액체(3)의 적어도 일부를 수용하기 위한 챔버(51), 상기 챔버 내에 액침된(immersed) 회절 격자(50); 회절 빔을 구현하기 위하여 상기 격자를 향해 제2 입사빔(20)을 방출하는 제2 광 소스(271); 격자(500)에 의해 회절된 상기 빔의 회절 차수의 최대 강도에 대응하는 적어도 하나의 회절각을 측정할 수 있는 각도 측정 부재들(57), 및 액체의 굴절률에 대한 물리적 양의 평가를 계산하기 위한 계산 수단(505)을 포함한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020087005964
첨부파일