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비전도 박막 코팅층의 형성 방법

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기관명	NDSL
출원인	주식회사 인광옵텍
출원번호	10-2008-0053999
출원일자	2008-06-10
공개번호	20091221
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 물리적 기상 증착을 이용한 비전도(Non-conductive) 박막 코팅층의 형성 방법에 관한 것으로서, IBAD(Ion-Beam Assist Deposition) 장비 내부의 진공도를 초고진공 상태로 유지시키면서 금속산화물(TiO 2 , SiO 2 , Zro 2 , Al 2 O 3 )을 이온빔 (전자빔) 가열 방식을 통해 PMMA, PC, PET 등의 수지계 기판이나 유리상에 증착하는 기술로서, 이온빔(전자빔) 가열시 사용되는 금속산화물로부터 소실되는 0 2 농도를 이온소스(ion-source)를 통해 이온화시켜 보충토록 함으로써 금속을 사용하지 않고도 금속의 질감을 갖는 박막 코팅층을 구현할 수 있도록 한 것이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020080053999
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