| 초록 |
본 발명은 미세 기공이 형성되지 않은 투습방지막이 구비된 기판 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의한 투습방지막이 구비된 기판은, 폴리머로 이루어진 투명 모재(120) 일면에 물리적 증기 증착법(PVD)을 통해 증착된 투명산화물박막(142)과, 플라즈마 중합법(Plasma polymerization)을 통해 형성된 실리콘계화합물(144)을 포함하여 구성된다. 또한, 본 발명에 의한 투습방지막이 구비된 기판의 제조방법은, 폴리머로 이루어진 투명 모재(120)의 표면을 이온빔을 이용하여 전처리하는 전처리단계(S100)와; 상기 모재에 스퍼터링법(Sputtering) 또는 전자총증착법(E-beam Evaporation)으로 투명산화물박막(142)을 형성하는 박막형성과정(S220)과, 상기 투명산화물박막(142) 상면에 플라즈마중합법(Plasma Polymerization)으로 실리콘계화합물(144)을 형성하는 화합물형성과정(S240)을 포함하는 투습방지막형성단계(S200);로 이루어지는 것을 특징으로 한다. 이와 같이 구성되는 본 발명에 따르면, 투명성은 유지하면서 투습도 및 투산소도가 획기적으로 감소하는 이점이 있다. |
