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특허/실용신안

방사선을 이용한 고분자 재료 상의 생체분자 패턴 형성방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 한국원자력연구원
출원번호 10-2008-0002097
출원일자 2008-01-08
공개번호 20090720
공개일자 2009-10-09
등록번호 10-0920995-0000
등록일자 2009-10-01
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 방사선 조사를 이용한 생체분자 패턴 형성방법에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 고분자 재료 표면에 방사선을 선택적으로 조사하고, 상기 조사 부위에 기능성 단량체를 그라프트 중합시킨 후 상기 기능성 단량체 상부에 생체분자를 도입하는 방사선을 이용한 고분자 재료상의 생체분자 패턴 형성방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면, 고분자 재료의 벌크 물성에 영향을 주지 않으며 저비용으로 용이하게 고분자 재료 위에 생체분자 패턴을 형성할 수 있으며, 사용하는 기능성 단량체의 종류에 따라 다양한 관능기의 도입이 가능하여 다양한 종류의 생체분자에 대하여 적용이 가능하여, 바이오 소자, 조직공학용 생체적합성 재료 등의 제조분야에 유용하게 사용될 수 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020080002097
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G03F-007/20,G03F-007/004,H01L-021/027
주제어 (키워드)