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특허/실용신안
플라즈마 반응기용 용사 이트리아 함유 코팅
특허 실용신안 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 램 리써치 코포레이션 |
| 출원번호 | 10-2011-7000086 |
| 출원일자 | 2011-01-03 |
| 공개번호 | 20110309 |
| 공개일자 | 2012-02-08 |
| 등록번호 | 10-1107542-0000 |
| 등록일자 | 2012-01-12 |
| 권리구분 | KPTN |
| 초록 | 반도체 공정 장치의 부품은 플라즈마 분위기에서 내침식성, 내부식성 및/또는 내부식-침식성을 제공하는 용사 이트리아 함유 코팅을 포함한다.이 코팅은 물리적 및/또는 화학적 공격으로부터 기판을 보호할 수 있다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020117000086 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | H01J-037/32,H01L-021/302,H01L-021/461,H05H-001/24 |
| 주제어 (키워드) |