| 초록 |
폴리머 등으로 된 기판 표면을, 촘촘하고 규칙적으로 정렬되는 2-D 또는 3-D 미세구조의 어블레이션(ablation)을 형성시키기 위하여, 적절한 에너지 밀도로 주기적으로 조사되는(pulsed) 레이저 광원(12)으로부터의 패턴화 된 조사(illumination)에 노출시키는 방법에 있어서, 그 공정은; 기판(S)의 타겟 영역(14)에 대응하는 고정된 피치에 일련의 동일한 또는 다른 형상들을 포함하는 마스크(13)를 설치하는 공정, 타겟 영역(14) 위에 마스크(13) 다수의 형상의 이미지를 조사(projecting)하기 위하여 마스크(13)를 통해 균일한 레이저 광선(18)을 조사하는 공정, 마스크(13)와 타겟 영역(14) 사이에서 광선(18)에 의해 운반되는 이미지를 축소시키는 공정, 타겟 영역(14)에 어블레이션을 위하여 기판(S)을 위치시키는 공정, 기판(S)을, 최소한 타겟 영역에서, 프로젝트 된 미세구조물 어레이(array)의 한 축에 평행한 첫 번째 방향(D1)으로 이동시키고, 그리고 또한 첫 번째 방향에 직각인 두 번째 방향(D2)으로 이동시키는 공정, 및, 타겟 영역(14)에서 기판(S)의 정확한 위치에 대응하여 파동 되는 레이저(12)의 발사를 조절하는 공정(20), 을 포함하는 것을 특징으로 한다. 나아가 본 발명은 패턴화 된 일루미네이션에 의해 2D 또는 3D 미세구조물의 조밀하고 규칙적인 어레이를 형성시키기 위하여 폴리머(polymer) 또는 기판(S)의 표면을 어블레이팅하는 장치에 있어서: 주기적으로 조사되는 레이저 광원(laser source)(12) ;와 고정된 피치에(on a fixed pitch) 일련의 동일한 또는 다른 형상을 포함하는 그리고 레이저 광원(laser source)(12)와 타겟 영영(14)사이에 설치되는 마스크(13);와 마스크(13)위의 다양한 형상으로 조사되는 레이저 광원(12)과 마스크(13) 사이에 설치된 균일한 레이저 광원(16)을 만들기 위한 일루미네이션 시스템(illumination system)(15);과 타겟 영역(12) 상에 마스크 이미지를 축소화하기 위한 그리고 마스크(13)와 타겟 영역(12) 사이에 설치된 광학 프로젝션 시스템(17);과 미세구조물의 규칙적인 어레이의 한 축에 평행한 첫 번째 방향과 그리고 첫 번째 방향에 직각인 두 번째 방향으로 타겟 영역(14) 내에서 기판(S)을 이동시키는 두 축 스테이지 시스템(19); 그리고 타겟 영역(14)에서 기판(S)의 정확한 위치에 파동 레이저(12)를 발사시키는 컨트롤 시스템(20); 으로 구성되는 것을 특징으로 한다. |
