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적층 필름의 제조 방법

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명	NDSL
출원인	스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
출원번호	10-2012-7010602
출원일자	2012-04-25
공개번호	20120824
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	본 발명은 굴곡하더라도 배리어성이 저하되기 어렵고, 도전성도 저하되기 어려운 적층 필름을 제조할 수 있는 방법을 제공한다.이 방법에서는 수지 필름 상에 배리어막 및 투명 도전막을 형성함으로써, 적층 필름을 제조한다.배리어막의 형성은 롤간 방전 플라즈마 CVD법에 의해 행한다.투명 도전막의 형성은 물리 기상 성장법에 의해 행하는 것이 바람직하고, 수지 필름으로는 폴리에스테르 수지 필름이나 폴리올레핀 수지 필름을 이용하는 것이 바람직하다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020127010602
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