| 기업공감원스톱서비스

대전 입자 리소그래피 시스템

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명	NDSL
출원인	마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이.
출원번호	10-2012-7018254
출원일자	2012-07-13
공개번호	20120831
공개일자	2014-07-24
등록번호	10-1423408-0000
등록일자	2014-07-18
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 다중 빔 대전 입자 광학 시스템에 관한 것으로서, 이 시스템은 개구가 마련된 적어도 하나의 전극을 구비하는 정전 렌즈 구조물을 포함하고, 상기 개구에서 상기 전극에 의해 영향을 받는 렌즈 필드의 유효 크기는 매우 작게 만들어진다.이 시스템은 렌즈 구조물이 포함되는 발산 대전 입자 빔 부분을 포함할 수 있다.렌즈의 물리적 치수는 매우 작게, 구체적으로 1 밀리미터보다 작게, 보다 구체적으로 수십 마이크로미터보다 작게 만들어진다.추가적으로, 상기 구조물의 렌즈와 관련하여 상기 렌즈의 상기 전류 제한 개구에 의해 영향을 받는 가상 개구(VA)가 수차 전체를 최소화하기 위한 최적화 위치에 배치되도록 렌즈가 전류 제한 개구(CLA)와 조합된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020127018254
첨부파일

기업조회