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특허/실용신안

플라즈마 처리 방법 및 장치

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 세키스이가가쿠 고교가부시키가이샤
출원번호 10-2011-7008084
출원일자 2011-04-08
공개번호 20110524
공개일자 2012-12-27
등록번호 10-1215667-0000
등록일자 2012-12-18
권리구분 KPTN
초록 대기압 플라즈마 처리에 있어서, 불소원료의 회수율 또는 회수 농도의 변동을 억제하여, 처리의 안정성을 확보한다.대기압 플라즈마 처리부 (2)로부터 배출 라인 (30)에 내놓은 배출 가스를, 분리부 (4)의 분리막 (41)로 회수 라인 (50)에의 회수 가스와 방출 라인 (60)에의 방출 가스로 분리한다.회수 가스를 공정 가스의 적어도 일부에 충당한다.상기 분리할 때, 불소계 원료의 회수율 및 회수 농도 중 어느 한쪽 또는 양쪽이 원하는 것이 되도록, 회수 가스, 방출 가스, 배출 가스 중 적어도 2가지의 가스의 상기 분리에 관한 물리량(바람직하게는 압력)을 공정 가스의 유량에 따라서 조절한다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020117008084
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE H01L-021/3065,H01L-021/205
주제어 (키워드)