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특허/실용신안

신규한 디블록공중합체, 이의 제조 방법 및 이를 사용한 나노 패턴 형성 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 ,
출원번호 10-2012-0027392
출원일자 2012-03-16
공개번호 20121102
공개일자 2015-08-20
등록번호 10-1545279-0000
등록일자 2015-08-11
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 보다 미세한 나노 패턴의 형성을 용이하게 하고, 나노 패턴을 포함한 전자 소자 또는 나노 바이오 센서의 제조 등에 사용될 수 있는 디블록공중합체, 이의 제조 방법 및 이를 사용한 나노 패턴의 형성 방법에 관한 것이다. 상기 디블록공중합체는 소정의 아크릴아미드계 반복단위를 1종 이상 포함한 하드세그먼트와, (메타)아크릴레이트계 반복단위를 1종 이상 포함한 소프트세그먼트를 포함하는 것이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020120027392
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C08F-297/00,C08F-220/10,C08F-220/56,C08J-005/18
주제어 (키워드)