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폴리메틸메타아크릴레이트 비드의 제조방법

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기관명	NDSL
출원인	주식회사 선진화학
출원번호	10-2005-0051269
출원일자	2005-06-15
공개번호	20080509
공개일자	2007-01-24
등록번호	10-0673550-0000
등록일자	2007-01-17
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 폴리메틸메타아크릴레이트 비드의 제조방법에 관한 것으로, 특히 메틸(메타)아크릴레이트, 아크릴계 단량체, 안정제, 개시제, 및 공용매를 중합반응시켜 비드를 제조하는 단계, 상기 제조한 비드를 세척하는 단계, 및 상기 세척된 비드를 건조하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 폴리메틸메타아크릴레이트 비드의 제조방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 폴리메틸메타아크릴레이트 비드는 광학필름 또는 광확산판에 적용되어 광학 필름 제조시 코팅단계에서 사용되는 아크릴계 바인더에 대한 분산성이 우수하고, 광학필름 또는 광확산판 제조시 사용되는 극성용매에 대한 내용제성이 우수할 뿐만 아니라, 건조단계에서의 고온안정성이 우수하고 황변현상을 방지할 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020050051269
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