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특허/실용신안

다중선형회귀분석을 이용하여 기상 및 대기오염 인자의 영향을 고려한 난치성 천식에 대한 정보제공방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 순천향대학교 산학협력단
출원번호 10-2011-0007772
출원일자 2011-01-26
공개번호 20120810
공개일자 2012-11-29
등록번호 10-1206704-0000
등록일자 2012-11-23
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 일별 기상 및 대기 오염 인자 중 천식 악화에 영향을 미치는 인자를 선정하는 단계; 및 다중 선형 회귀분석(Multiple linear regression) 방법을 사용하여 모델링하는 단계를 포함하는 기상 및 대기오염 인자의 영향을 고려한 난치성 천식(Refractory asthma: 이하 RA)에 대한 정보제공방법을 제공한다. 본 발명은 기상 인자 및 대기 오염 인자가 난치성 천식 환자에게 미치는 영향을 평가하여 질병의악화 위험을 예측할 수 있게 하여 이를 기초로 난치성 천식 악화 예방을 위한 조기 경보 체계를 구축할 수 있는 장점이 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020110007772
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G06F-019/00,G06F-017/10
주제어 (키워드)