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특허/실용신안

무?매트릭스 레이저 광탈착 이온화 질량 분석 방법

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 한국표준과학연구원
출원번호 10-2010-0104319
출원일자 2010-10-25
공개번호 20120504
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 매트릭스를 사용하지 않으며, 시료에 레이저 광탈착 이온화를 유발하는 외부 물질을 첨가하지 않고, 유기물, 무기물, 생화학물질, 또는 이들의 복합물을 함유하는 분석대상물질의 레이저 광탈착 이온화를 유발하여 분석대상물질의 질량을 분석하는 방법에 관한 것으로, 상세하게, 본 발명에 따른 분석방법은 무기 기판에 유기물, 무기물, 생화학물질, 또는 이들의 복합물을 함유하는 분석대상물질을 포함하는 분석액을 도포한 후 건조하고, 상기 분석대상물질이 도포 및 건조된 무기 기판에 레이저 광을 조사하여 상기 무기 기판의 레이저 광 흡수에 의해 상기 분석대상물질을 탈착 이온화시켜, 상기 탈착 이온화된 분석대상물질의 질량 검출을 수행하는 특징이 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020100104319
첨부파일

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