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특허/실용신안

아조벤젠 필름을 이용한 반사방지막 또는 반사막 및 그의제조방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 광주과학기술원
출원번호 10-2004-0018100
출원일자 2004-03-17
공개번호 20080509
공개일자 2006-01-26
등록번호 10-0547251-0000
등록일자 2006-01-20
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 아조벤젠 필름을 이용한 반사방지막 또는 반사막 및 그의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 아조벤젠 화합물을 포함하는 필름의 표면에 아조벤젠의 흡수영역의 광선을 조사하는 단일 공정으로 다양한 경사 굴절률을 갖는 파동형상 곡면의 미세표면요철구조를 형성시키고, 이를 주형으로 하여 몰딩법을 적용함으로써 실리콘 고무, 자외선 중합물질로 간단하게 상기 형성된 미세표면요철구조를 대면적으로 전이시키는 단계로 이루어진다. 본 발명에 의하면 기존의 다단계 반사방지막 제작시의 단점으로 지적되었던 높은 제작 비용, 낮은 환경 안정성, 입사각 의존성 및 좁은 파장영역에서의 문제를 발생하지 않으며, 후 공정 단계가 필요 없는 노광 단일 공정에 의해 주형을 제작할 수 있고, 몰딩법에 의하여 미세표면요철구조가 형성된 막의 대량생산이 가능하며, 미세구조 패턴의 중첩원리를 이용하여 다양한 형상의 미세표면요철구조를 성형할 수 있어서 광학소자, 태양전지 및 디스플레이 등 반사방지막 또는 반사막을 필요로 하는 소자에 용이하게 적용할 수 있는 효과가 부여된 반사방지막 또는 반사막을 제조할 수 있다.`
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020040018100
첨부파일

추가정보

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