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특허/실용신안

은나노 입자 제조방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 ,
출원번호 10-2010-0100621
출원일자 2010-10-15
공개번호 20120427
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 본 발명은 균일한 입자크기를 가지고, 화학 및 물리학적으로 안정적이러서 장기간 보관할 수 있게 되어, 안정된 은나노입자의 양산화 및 경제적인 생산이 이루어질 수 있도록 해주는 은나노입자 제조방법을 제공하는 것으로서, 출발물질로서 질산은(Silver Nitride, AgNO 3 )를 사용하고, 환원제로서 히드라진(Hydrazine)을 사용하고, 안정제로서 유기인산계 화합물을 사용하며, 유기인산계 화합물은 모노(2-에틸헥실)-2-에틸헥실포스포네이트(Mono(2-ethylhexyl)-2-ethylhexylphosponate, PC88A), 비스(2-에틸헥실)포스페이트(Bis(2-ethylhexyl)phosphate, BEHPa), 그리고 비스(2-에틸헥실)포스파이트(Bis(2-ethylhexyl)phosphite, BEHPi) 중 선택된 하나이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020100100621
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE B82B-003/00,B22F-009/16
주제어 (키워드)