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특허/실용신안
공정챔버의 실시간 모니터링 시스템
특허 실용신안 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | (주)쎄미시스코 |
| 출원번호 | 10-2010-0100857 |
| 출원일자 | 2010-10-15 |
| 공개번호 | 20120427 |
| 공개일자 | 2012-07-30 |
| 등록번호 | 10-1169764-0000 |
| 등록일자 | 2012-07-24 |
| 권리구분 | KPTN |
| 초록 | 본 발명은 공정챔버의 실시간 모니터링 시스템을 개시한 것으로, 이러한 본 발명은 공정챔버의 배기라인내에 광파이버에 연결되는 프로브를 내장시켜 흡수분광분석법으로 배기라인을 통과하는 특정대역의 파장을 분광처리하여 산소(O2)와 질소(N2)의 존재여부를 실시간 측정하는 모니터링 시스템을 구성하거나, 또는 공정챔버의 광 윈도우(뷰포트)로부터 배출되는 플라즈마 광 에미션과 공정챔버의 배기라인을 통해 배출되는 가스를 흡수분광분석법으로 실시간 모니터링하는 시스템을 동시에 구축한 것으로, 이를 통해 RGA기법 사용시 가스 이온화를 위해 필라멘트와 같은 부품을 사용해야 하는 경제적인 부담을 줄이면서 부품 교체작업으로 인해 공정이 중단되는 문제를 방지하고, 특히 공정챔버내의 물리적 및 화학적 상태를 실시간으로 모니터링하여 플라즈마의 이상 방전과 같은 공정챔버의 이상 유무 및/또는 공정챔버내에 외부 공기에 의한 리크가 존재하는지를 보다 정밀하게 실시간으로 검출할 수 있는 것이다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020100100857 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | H01L-021/66,H01L-021/3065,H01L-021/205,H01L-021/203 |
| 주제어 (키워드) |