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특허/실용신안

전계 생성 고임피던스 시스템 및 사용 방법

특허 실용신안 개요

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기관명 NDSL
출원인 메이-루벤 테크놀로지즈, 인코퍼레이티드
출원번호 10-2008-7013250
출원일자 2008-05-30
공개번호 20080922
공개일자 2014-02-12
등록번호 10-1361498-0000
등록일자 2014-02-05
권리구분 KPTN
초록 시변 및 불시변 전계(E-필드) 생성 시스템 및 방법이 개시된다.전계 생성에 있어, 고투자율(ε), 고 부피저항(ρ) 및 고 최대 허용가능한 전계 스트레스(Φ) 및 3개의 필수 재료 특성 및, 전계가 직렬의 커패시턴스 네트워크에서 분할되거나 분배되는 방식의 이점을 갖는 물리학적 형상을 갖는 고임피던스 유전 재료를 사용한다.생성된 전계는 기체, 액체 또는 고체를 포함하는 대상 재료에 작용할 수 있고, 상기 대상 재료는 정적 또는 동적이다.상기 방법에 의해, 주어진 강도의 전계는 상당히 낮게 인가된 전압(Φa) 또는 반대로, 주어진 인가된 전압(Φa)을 갖는 상당히 높은 전계 강도를 갖는 대상 재료에서 설정될 수 있다.상기 방법에 의해 대상 재료를 통과하는 도전 전류가 방지되어, 전극/플로이드 인터페이스에서의 도전 전류, 에너지 소비량, 옴 가열이 상당히 감소되고 전기화학 반응이 회피된다.음향 에너지가 또한 인가될 수 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020087013250
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G01N-027/02,G01N-027/00
주제어 (키워드)