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미세조직 제어형 박막 필름 증착을 위한 이온화 물리 기상 증착

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기관명	NDSL
출원인	어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드
출원번호	10-2012-7000954
출원일자	2012-01-12
공개번호	20120416
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	타겟, 기판 및 프로세스 가스를 포함하는 물리 기상 증착(PVD) 진공 챔버 내에서 기판을 프로세싱하는 방법에 관한 것으로서, 상기 압력은 타겟으로부터 스퍼터링되는 종들의 상당 부분의 이온화를 유발할 수 있다.매우 높은 주파수 전력을 타겟으로 인가함으로써 용량 결합형 고밀도 플라즈마가 유지된다.스퍼터링된 물질이 플라즈마 내에서 이온화되고 그리고 기판에 인가된 고주파수 바이어스 전력에 의해서 기판을 향해서 가속된다.하나 또는 둘 이상의 압력 및 고주파수 바이어스 전력을 변경함으로써 결과적인 필름의 미세조직이 제어된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020127000954
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