| 초록 |
본 발명은 비기공성 및 유연성 몰드 또는 비기공성 및 비유연성 몰드를 이용하여 가시 광선의 파장보다 적어도 작은 선폭을 갖는 그레이팅을 기판 상에 형성할 수 있도록 한다는 것으로, 이를 위하여 본 발명은, 기공성 몰드를 이용하는 종래의 모세관 형성법과 높은 압력을 이용하는 종래의 임프린트 방법과는 달리, 비기공성과 유연성의 요철 형태 몰드와 비유연성 기판을 사용하거나 혹은 비기공성과 비유연성의 요철 형태 몰드와 유연성 기판을 사용하며, 모세관 힘과 대기압보다 적어도 낮은 외압을 이용하는 고분자 패터닝을 수행함으로써, 기판 상에 가시광선의 파장보다 작은 선폭이나 지름을 갖는 목표로 하는 형상의 초미세 그레이팅 구조물을 간편하고 경제적으로 제조할 수 있는 것이다.또한, 본 발명은, 기존의 나노 임프린트 방법과 비교할 때, 높은 압력을 필요로 하지 않으므로 높은 압력에 기인하는 기판 손상 등의 문제가 근본적으로 발생하지 않으며 이를 통해 생산성을 향상시킬 수 있고, 높은 압력을 넓은 면적에 균일하게 적용시키는데 필요한 역학적 디자인과 그에 따른 고가 장비의 사용을 배제시킴으로써 제품의 제조원가를 절감할 수 있는 것이다. |
