| 초록 |
본 발명은 PDMS 등 기판에 나노 사이즈 및 마이크로사이즈의 미세구조 및 이들의 하이브리드 표면층을 마이크론 크기의 분해능 하에서 그 위치 및 크기를 조절하며 만들 수 있는 초고속 레이저 공정 관한 것이다. 초고속레이저 조사를 이용함으로써 기판위에 제어 가능한 위치 및 형태의 패턴을 갖고 있으며, PDMS 등 고분자 고체 표면의 유변학(Rheology)적인 성질을 변환할 수 있도록 하는 이제까지 알려지지 않았던 새로운 공정 기술로써, 기존의 유변학적인 변형을 이룩하기 위하여 필수적이었던 청정실(clean room) 및 진공 증착 장비와 같은 고가의 공정환경 구축 등의 부가적인 생산 단가 발생 요인을 혁신적으로 줄이고, 일반적 실험실 조건 하에서의 다양한 형태의 패턴닝 및 미세공정이 가능하게 하는 새로운 기술이다. 이러한 레이저 공정 기술은 앞으로 전자, 광학, 바이오 등의 다양한 분야에서 고분자를 이용한 여러 소자들의 개발에 있어서 필수적인 원천 공정 기술을 포함하는 특허가 될 것이다. 특히 이러한 레이저 공정 기술은 앞으로 전자, 디스플레이, 광학, 바이오 및 입으로 부는 악기의 떨림판의 표면 등에서의 물과 같은 액체의 부착으로부터 오는 문제 해결 등 다양한 분야에서 여러 다양한 소자들의 개발에도 그 응용 범위가 확장될 수 있다. |
