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마스크 블랭크, 전사용 마스크, 전사용 마스크의 제조 방법 및 반도체 디바이스의 제조 방법

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기관명	NDSL
출원인	호야 가부시키가이샤
출원번호	10-2012-0107964
출원일자	2012-09-27
공개번호	20130412
공개일자	0000-00-00
등록번호
등록일자	0000-00-00
권리구분	KUPA
초록	고정밀도의 전사 패턴을 갖고, 광학 특성이 양호한 차광막을 갖는 전사용 마스크를 제작하는 것을 가능하게 하는 마스크 블랭크를 제공한다. 전사용 마스크를 제작하기 위해서 이용되는 마스크 블랭크이고, 투광성 기판 상에 차광막과 에칭 마스크막이 차례로 적층한 구조를 갖는 마스크 블랭크로서, 상기 에칭 마스크막은 크롬을 함유하는 재료로 이루어지고, 상기 차광막은 탄탈을 함유하는 재료로 이루어지고, 상기 차광막의 투광성 기판측과는 반대측의 표층에 고산화층이 형성되어 있고, 상기 고산화층은 X선 전자 분광 분석을 행하였을 때의 Ta4f의 네로우 스펙트럼이 23eV보다도 큰 속박 에너지에서 최대 피크를 갖는 것을 특징으로 하는 마스크 블랭크이다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020120107964
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