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특허/실용신안

반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크 및 반사형 마스크의 제조 방법

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 호야 가부시키가이샤
출원번호 10-2012-0108291
출원일자 2012-09-27
공개번호 20130412
공개일자 0000-00-00
등록번호
등록일자 0000-00-00
권리구분 KUPA
초록 (과제) 탄탈계 재료의 흡수체막과 크롬계 재료의 에칭 마스크막이 적층한 반사형 마스크 블랭크를 이용하여, 고정밀도의 전사 패턴을 갖고, 광학 특성이 양호한 흡수체막을 갖는 반사형 마스크를 제작하는 것을 가능하게 하는 반사형 마스크 블랭크를 제공한다. (해결 수단) 반사형 마스크를 제작하기 위해서 이용되는 반사형 마스크 블랭크이고, 기판 상에 다층 반사막과 흡수체막과 에칭 마스크막이 차례로 적층한 구조를 갖는 반사형 마스크 블랭크로서, 상기 에칭 마스크막은 크롬을 함유하는 재료로 이루어지고, 상기 흡수체막은 탄탈을 함유하는 재료로 이루어지고, 상기 흡수체막의 기판측과는 반대측의 표층에 고산화층이 형성되어 있고, 상기 고산화층은 X선 전자 분광 분석을 행하였을 때의 Ta4f의 내로우 스펙트럼이 23eV보다도 큰 속박 에너지에서 최대 피크를 갖는 것을 특징으로 하는 반사형 마스크 블랭크이다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020120108291
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE G03F-001/22,G03F-001/80,H01L-021/027
주제어 (키워드)