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기체의 도입을 통한 이온 주입 공정 중에 오염을 완화하여 표면 특성을 수정하는 시스템 및 방법

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기관명	NDSL
출원인	액셀리스 테크놀로지스, 인크.
출원번호	10-2008-7012922
출원일자	2008-05-29
공개번호	20080922
공개일자	2013-06-14
등록번호	10-1275907-0000
등록일자	2013-06-11
권리구분	KPTN
초록	이온 주입 공정을 위한 오염 완화 '또는 표면 수정 시스템은 기체원, 제어기, 밸브 및 처리실을 포함한다. 기체원은, 대기 또는 반응 기체인 기체를 밸브로 전달하고, 제어기에 의해 제어된다. 밸브는 처리실 상에나 주변에 위치되고, 처리실로의 기체의 흐름 속도 및/또는 조성물을 제어 가능하게 조절한다. 처리실은 타겟 웨이퍼와 같은 타겟 장치를 보유하고, 이 기체를 이온 빔과 상호 작용시켜, 타겟 웨이퍼의 오염을 완화하고, 및/또는 처리 환경의 기존의 성질 및/또는 타겟 장치를 수정하여 그의 물리적 또는 화학적 상태 또는 특성을 변화시킨다. 제어기는 이온 빔 내에 존재하는 오염물, 또는 오염물의 없음, 또한 전체 또는 부분 압력 분석에 따라 기체의 조성물 및 흐름 속도를 선택하여 조절한다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020087012922
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