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실리카 표면처리된 이산화티탄 분말의 제조방법

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기관명	NDSL
출원인	주식회사 선진화학
출원번호	10-2009-0104051
출원일자	2009-10-30
공개번호	20110524
공개일자	2012-04-26
등록번호	10-1138235-0000
등록일자	2012-04-13
권리구분	KPTN
초록	본 발명은 실리카 표면처리된 이산화티탄 분말의 제조방법에 관한 것으로, 상기 제조방법에 의해 제조된 이산화티탄 분말은 단일입자 직경이 100 nm 초과인 입자로 이루어져 있기 때문에 나노입자의 인체 유해성에 대한 우려가 없고, 자외선 B 영역뿐 아니라 자외선 A 영역에 까지 광범위한 자외선 차단 영역을 가지며, 또한 종래 나노크기의 초 미립자 이산화티탄에 비해 현저히 개선된 사용감을 나타내어, 자외선 차단을 위한 용도로 사용되는 화장료에 유용하게 사용될 수 있다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020090104051
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