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특허/실용신안
스퍼터링 장치 및 이를 이용한 박막 형성 방법
특허 실용신안 개요
| 기관명 | NDSL |
|---|---|
| 출원인 | 주성엔지니어링(주) |
| 출원번호 | 10-2011-0029552 |
| 출원일자 | 2011-03-31 |
| 공개번호 | 20121012 |
| 공개일자 | 0000-00-00 |
| 등록번호 | |
| 등록일자 | 0000-00-00 |
| 권리구분 | KUPA |
| 초록 | 본 발명은 기판에 형성된 유기 박막 상에 박막을 형성하는 스퍼터링 공정시 플라즈마 방전에 의한 타겟 입자들의 물리적 충격과 플라즈마 방전에서 발생되는 자외선(UV)에 의한 광학적 충격으로부터 유기 박막이 손상되는 것을 방지할 수 있는 스퍼터링 장치 및 이를 이용한 박막 형성 방법에 관한 것으로, 스퍼터링 장치는 반응 공간을 제공하는 공정 챔버; 상기 공정 챔버 내부에 설치되어 기판을 지지하는 서셉터; 상기 기판 상에 증착될 박막 물질로 이루어져 상기 서셉터에 대향되도록 상기 공정 챔버 내부에 설치된 타겟; 및 상기 타겟과 상기 서셉터 사이에 배치된 경로 변화 수단을 포함하여 구성되며, 상기 경로 변화 수단은 상기 반응 공간에서 발생되는 플라즈마 방전에 의해 상기 타겟으로부터 떨어져 나온 상기 타겟 입자의 진행 경로를 적어도 2회 변경하여 상기 기판 상에 증착될 타겟 입자의 운동 에너지를 감소시키는 것을 특징으로 한다. |
| 원문URL | http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KUPA&cn=KOR1020110029552 |
| 첨부파일 |
추가정보
| 과학기술표준분류 | |
|---|---|
| ICT 기술분류 | |
| IPC분류체계CODE | |
| 주제어 (키워드) |