기업조회

본문 바로가기 주메뉴 바로가기

특허/실용신안

소수성 고분자로 표면처리된 세라믹 나노 분말의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 세라믹 나노 분말

특허 실용신안 개요

기관명, 출원인, 출원번호, 출원일자, 공개번호, 공개일자, 등록번호, 등록일자, 권리구분, 초록, 원본url, 첨부파일 순으로 구성된 표입니다.
기관명 NDSL
출원인 한국원자력연구원
출원번호 10-2010-0131373
출원일자 2010-12-21
공개번호 20120706
공개일자 2013-03-05
등록번호 10-1239356-0000
등록일자 2013-02-26
권리구분 KPTN
초록 본 발명은 소수성 고분자로 표면처리된 세라믹 나노 분말의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 세라믹 나노 분말에 관한 것으로서, 상세하게는 세라믹 분말, 소수성 고분자 및 공정제어제(PCA, process control agent)를 습식밀링하여 세라믹분말을 나노입자화시키는 동시에 소수성 고분자로 표면처리하는 것을 특징으로 하는 소수성 고분자로 표면처리된 세라믹 나노 분말의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 세라믹 나노 분말을 제공한다. 본 발명에 따른 소수성 고분자로 표면처리된 세라믹 나노 분말의 제조방법 및 이에 따라 제조되는 세라믹 나노 분말은 one-step 볼밀링 공정을 이용하여 세라믹 분말을 나노화시킴과 동시에 소수성 물질로 표면을 코팅할 수 있는 특징이 있으며, 산 또는 염기성 용액에 반응하는 세라믹 분말의 표면 활성화 및 유기용제의 슬러리화에 의하여 견고한 코팅층을 형성할 수 있어 고분자 기재 분산시 젖음성과 접착성이 향상되어 나노입자가 고분자 기지에 균일 분산될 수 있고, 세라믹 나노입자와 고분자 기지의 결합을 강하게 할 수 있다. 또한, 방사선 차폐재에 이용되는 경우 감마선 또는 중성자 차폐능을 크게 향상할 수 있어 극한환경에서도 장기간 물성을 유지해야 하는 원자력, 우주, 의료 및 국방 등 다양한 분야의 방사선 환경에 이용할 수 있다.
원문URL http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020100131373
첨부파일

추가정보

과학기술표준분류, ICT 기술분류, IPC분류체계CODE, 주제어 (키워드) 순으로 구성된 표입니다.
과학기술표준분류
ICT 기술분류
IPC분류체계CODE C04B-041/83,C04B-035/626,C04B-035/628
주제어 (키워드)