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고분자 압전 재료, 그의 제조방법, 및 압전 소자

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기관명	NDSL
출원인	,
출원번호	10-2011-7023942
출원일자	2011-10-12
공개번호	20111223
공개일자	2013-09-02
등록번호	10-1302780-0000
등록일자	2013-08-27
권리구분	KPTN
초록	본 발명에서는, 중량평균 분자량이 5만 내지 100만인 광학 활성을 갖는 헬리칼 키랄 고분자를 포함하고, 25℃에서의 압전 상수 d 14 가 10pC/N 이상이고, X선 회절법으로 얻어지는 결정화도가 40% 내지 80%이며, 또한 헤이즈가 0.5 내지 30인 고분자 압전 재료가 제공된다.
원문URL	http://click.ndsl.kr/servlet/OpenAPIDetailView?keyValue=03553784&target=KPTN&cn=KOR1020117023942
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